提高導電性技術
真空條件下，在膜表面形成導電性納米級薄膜的技術，應用于柔性印制電路板、觸摸板透明導電薄膜保護膜等產品。

濺射沉積技術 
在氬氣中對目標施加高壓時，便會形成 Ar+ 和電子組成的等離子體。 Ar+ 在電場中加速，會對目標產生影響，最終噴射出目標物質。 有些情況下，噴射出的原子會直接沉淀到基膜上，而另一些情況下，如氧氣等活性氣體混入氬氣中時，則會沉淀出包含目標物質和氧氣的化合物。 ITO 透明導電膜便屬于后一種，通過補充 In2O3-SnO2 目標物質中的氧氣（在分解過程中失去）形成。